φ300Si 웨이퍼나 FPD용 유리 등의 대형 기판에 성막 가능합니다.
투명 도전막
(Ex. ITO 성막 투과율: 550nm에서 90％, 시트 저항: 16Ω)
| size of cathode | 5in × 30in |
|---|---|
| size of substrate(MAX) | ~370×470(4 홀더) |
| Sub. Temperature(MAX) | 250℃ |
| Exhaust system | RP, CP(크라이오 펌프) |
| Power of Depo(MAX) | DC2KW×2(리액티브 스패터용 이상방전 방지기 포함) |
| Back Pressure(MAX) | 5×10 - 5Pa이하 |
| Sputtering targets | Al, Ta, Ti, W, Ag, APC, APC-TR, APC-SR, IZO걁In2O3-10wt%ZnO), Al-Nd |
＊ 위 보유 타겟 이외의 성막도 상담 가능합니다.
성막 분포 및 온도 분포는 ±10％ 입니다. 단, 막질 및 성막의 상황에 따라 범위 밖으로 벗어나는 경우도 있습니다. 양해 부탁드립니다.
